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1、目錄
紫外臭氧清洗機(jī)
1 ?紫外淸洗發(fā)展歷史
2. 紫外臭氧清洗的優(yōu)勢(shì)
3. 紫外臭氧清洗原理
4. 紫外臭氧淸洗匚藝
紫外清洗發(fā)展歷史
?紫外光表ifii清洗技術(shù)在國(guó)際上是隨著光電子信 息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。七十年代中期美國(guó) 軍出電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射消 洗石英晶片取得滿意的效果。九I?年代初，H 本和美國(guó)先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電 子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程，并開始向我國(guó)個(gè)別外 資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV 光清洗機(jī)。
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紫外清洗發(fā)展
2、歷史
?隨后，LI本在發(fā)展紫外光衣血消洗技術(shù)的同時(shí)，紫外 光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。在二十世紀(jì)末，日木 等先進(jìn)工業(yè)國(guó)家紫外光農(nóng)面消洗和改質(zhì)技術(shù)山信息產(chǎn) 業(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等匸業(yè)牛產(chǎn)過程。二 十吐紀(jì)九十年代后期，我國(guó)的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人 的速度E速發(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展， LCD顯示屏由TN級(jí)向STN和TFT不斷捉升，新型的 OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場(chǎng)。由此，對(duì)制爸I：藝 過程農(nóng)而質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格，紫外光表而淸洗技術(shù) 的優(yōu)越性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可，UV光清洗機(jī)的需求吊止 在不斷增長(zhǎng)。
?紫外臭氧清洗的優(yōu)勢(shì)
MYCRO PSD系列紫外臭氧清洗機(jī)常用丁? 扌弓描探測(cè)
3、顯微鏡的樣品丿2?用.該設(shè)備能用片帯先原子力顯微 鏡探針,打描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和衣面上常規(guī)的油漬層和殘留的無 機(jī)材料，也能'
紫外臭氧清洗效果圖
紫外臭氧清洗原理
?原理：通過產(chǎn)生185nm利254nm高強(qiáng)度UV光分解尙 機(jī)分子（污染物）o 185nm波長(zhǎng)紫外光的光能量能將 宇氣中的氧氣（02）分解成臭氧（03）,而254nm 波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將03分解成02和活性氧
（0） o在連續(xù)進(jìn)行的光敏氧化反應(yīng)中，生成的活性 氣原子與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生 氧化反應(yīng),生成揮發(fā)性氣體（如CO2, CO, H2O, NO等）逸出物體表面，從而徹底清除粘附在物體表面 上的
4、有機(jī)污染物，達(dá)到清洗的H的。
?紫外光衣而改質(zhì)
低爪報(bào)外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長(zhǎng)的紫外光除仃詁洗左除物
騎測(cè)附躅邵隨孫劇縄跚疏般恫「 6匚$!巴（頭黑幅瑚嫦#厲,‘ °1卜「」計(jì)lL'f戕除胡舊紹烏果 顯淸,活化的購體農(nóng)面具有良好的粘合力籾鍵合待性,這飛斤棊和涂料、 幫鉀辭威籲鵜誡勢(shì)敷鑫胡醯鱸魏蠶通'
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?紫外光表而改質(zhì)原理表達(dá)式:
丁Fb CHO. COCH 萼
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E：為緊外線比了能以
紫外臭氧清洗工藝
?用于納米技術(shù)，化學(xué)，牛物學(xué)，光學(xué)，電子學(xué), 半導(dǎo)體和實(shí)驗(yàn)室。
?樣品材料:硅氧化硅 金屬側(cè)化傢氮化硅云母 陶瓷聚合物（有機(jī)玻璃）硼硅玻璃石英藍(lán)寶 石其他材料
紫外臭氧清洗工藝
?典型應(yīng)用包括：
?衣面的原子級(jí)清洗
?聚合物需接
?去除冇機(jī)分了
?釋放捕獲的無機(jī)分了
?微流控制作
?微米/納來初型
?紫外光固化
?畏茴化學(xué)衣性
?表面殺菌
?表面氧化
?金屬粘結(jié)準(zhǔn)備……
紫外臭氧清洗機(jī).
