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1、 v 高 濃 度 難 降 解 有 機(jī) 廢 水 厭 氧 好 氧 （ A/O）v 污 水 富 營 養(yǎng) 化 污 水 生 物 脫 氮 、 磷v 有 毒 有 害 有 機(jī) 廢 水 化 學(xué) 氧 化 生 物 氧 化 厭 氧 好 氧 （ A/O）厭 氧 氧 化 ： 厭 氧 生 物 接 觸 氧 化 、 AFB、 UASB目 的 ： 提 高 廢 水 的 生 物 可 生 化 性 生 物 脫 氮 ： 好 氧 工 藝 ： 將 廢 水 中 的 氨 氮 轉(zhuǎn) 化 為 硝 態(tài) 氮 （ NH3-N NO3-N） 厭 氧 工 藝 ： 將 廢 水 中 的 硝 態(tài) 氮 轉(zhuǎn) 化 為 氮 氣 ( NO3-N N2 )生 物 除 磷 ： 在
2、厭 氧 工 藝 中 微 生 物 釋 放 磷 ， 在 好 氧 工 藝 中 微 生 物 吸 收 磷 ， 再 通 過 剩 余 污 泥 的 形 式 排 放 化 學(xué) 氧 化 生 物 氧 化化 學(xué) 氧 化 ： 將 大 分 子 分 解 成 小 分 子 、 破 壞 分 子 結(jié) 構(gòu) 、 提 高 廢 水 的 生 物 可 生 化 性 ；生 物 氧 化 ： 經(jīng) 化 學(xué) 氧 化 預(yù) 處 理 后 的 廢 水 進(jìn) 一 步 生 化 處 理 達(dá) 標(biāo) 排 放 l濕 式 氧 化 （ Wet Oxidation）l催 化 氧 化 (Catalytic Oxidation)l光 助 氧 化 (Photochemically Enhan
3、ced Oxidation)l電 化 學(xué) 氧 化 （ Electrochemically Enhanced Oxidation l濕 式 亞 臨 界 氧 化 （ Wet Sub-critical Oxidation）l 濕 式 空 氣 氧 化 （ Wet Air Oxidation）l 助 加 濕 式 氧 化 (Promoted Wet Air Oxidation)l 濕 式 雙 氧 水 氧 化 (Wet Peroxide Oxidation)l濕 式 超 臨 界 氧 化 (Wet Supercritical Oxodation) l反 應(yīng) 條 件高 溫 （ 150-300oC） , 高 壓
4、(5-20Mpa)l氧 化 劑空 氣 或 氧 氣 (當(dāng) T150oC, T ， PO2 )l反 應(yīng) 產(chǎn) 物二 氧 化 碳 和 水 、 低 分 子 易 生 物 降 解 有機(jī) 物 （ 甲 酸 、 乙 酸 、 乙 二 酸 ） 0 5 10 15 20 25 30 35 40 45 0 15 30 60 90 120 Bi od eg rab ilit y (% ) 0 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 0 15 30 60 90 120 TO C re mo va l( %) TOC, (150c) TOC, (200c) TOC, (250c) TOC, (300c)WAO
5、處 理 印 染 廢 水 溶 質(zhì) 普 通 水 超 臨 界 水無 機(jī) 物 大 部 分 易 溶 不 溶 或 微 溶有 機(jī) 物 大 部 分 微 溶 或 不 溶 易 溶氣 體 大 部 分 微 溶 或 不 溶 易 溶 化 合 物 溫 度oC 壓 力Mpa 氧 化 劑 反 應(yīng) 時(shí)間 min 去 除率 2 硝 基 苯 515 44.8 O2 10 902， 4 二 甲 基 酚 580 44.8 O2+H2O2 10 992， 4 二 硝 基 甲 苯 528 29.0 O2 3 98八 氯 二 苯 并 呋 喃 600 25.6 O2 0.1 99.99二 噁 恩 630 25.6 O 2 0.1 99.99 參
6、 數(shù) 與 指 標(biāo) SCWO WAO 焚 燒 法溫 度 oC 400-600 150-350 2000-3000壓 力 Mpa 30-40 2-20 常 壓催 化 劑 不 需 要 需 要 不 需 要反 應(yīng) 時(shí) 間 min 10去 除 率 99.99 75-90 99.99自 熱 是 是 不 是適 用 性 普 適 受 限 制 普 適排 出 物 無 毒 、 無 色 有 毒 、 有 色 含 NOx后 續(xù) 處 理 不 需 要 需 要 需 要 v 均 相 催 化 氧 化絡(luò) 合 催 化 機(jī) 理 ；金 屬 鹽 類 催 化 劑 。v 非 均 相 催 化 氧 化 表 面 吸 附 機(jī) 理 ；負(fù) 載 型 催 化 劑
7、。 q浸 漬 法 ；q溶 膠 凝 膠 法 （ Sol-Gel） ;q化 學(xué) 氣 相 沉 積 法 （ Chemical Vapor Deposition） 。 處 理 對 象 處 理 方 式 及 條 件 乙 酸 氨 苯 酚 WAO 60 60 30 反 應(yīng) 時(shí) 間（ min） 催 化 WAO 60 60 60 WAO 248 220270 250 反 應(yīng) 溫 度 （ ） 催 化 WAO 248 263 200 WAO 15 5 98.5 去 除 率 （ %） 催 化 WAO 90 50 94.8 氧 化 劑 ： 二 氧 化 氯催 化 劑 ： Cu/r-Al2O3, Pt/AC處 理 廢 水 ：
8、高 濃 度 制 藥 廢 水 、 染 料 中 間 體 廢 水 、 醫(yī) 藥 中 間 體 廢 水 進(jìn) 水 水 質(zhì) ： pH =79， CODCr=60000mg/L， 色 度 =20000倍 ， 揮 發(fā) 酚 =100mg/L；處 理 量 ： 6m3/h；處 理 結(jié) 果 ： 氧 化 出 水 ： pH =56 ， CODCr=5000mg/L， 色 度 =60倍 生 化 出 水 ： pH =67， CODCr300mg/L， 色 度 =40倍 揮 發(fā) 酚 0.1mg/L 總 投 資 ： 150萬 元 人 民 幣 ；運(yùn) 行 費(fèi) 用 ： 15元 /m 3廢 水 。 v光 化 學(xué) 氧 化UV/H2O2; UV
9、/O3;UV/H2O2/O3。v光 催 化 氧 化 均 相 光 催 化 （ UV/Fenton） ； 非 均 相 光 催 化 (UV/TiO 2) l內(nèi) 電 解 反 應(yīng) Fe C內(nèi) 電 解 染 料 脫 色l低 壓 電 解 陽 極 氧 化 陰 極 還 原l高 壓 脈 沖 電 解 等 離 子 體 技 術(shù) a. 電 暈 放 電 ； b. 流 柱 放 電 ； c. 火 花 放 電 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 1000 10 20 30 40 50 濃度（ mg/L） 時(shí) 間 （ min） 對 氯 酚 溶 液 純 水 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90
10、01 234 567 8910 1112 臭氧濃度（ mg/L） 時(shí) 間 （ min） 對 氯 酚 溶 液 純 水 0 10 20 30 40 50 60010 203040 5060 708090 100 降解率（ ） 時(shí) 間 （ min） 12kv 14kv 16kv 1、 濕 式 氧 化 ： 已 經(jīng) 大 規(guī) 模 推 廣 應(yīng) 用 ， 處 理 對 象 ： 高 濃 度 有 機(jī) 廢 水 、 污 泥 脫 水 、 活 性 炭 再 生 等 ；2、 催 化 氧 化 ： 已 經(jīng) 積 累 了 不 少 成 功 的 經(jīng) 驗(yàn) ， 但 催 化 劑 和 氧 化 劑 的 組 合 需 要 做 大 量 的 試 驗(yàn) ；3、 光 化 學(xué) 氧 化 ： 適 合 于 低 濃 度 有 毒 廢 水 的 深 度 處 理 ， 目 前 僅 Fenton氧 化 有 大 規(guī) 模 的 工 程 應(yīng) 用 ；4、 電 化 學(xué) 氧 化 ： 低 壓 電 化 學(xué) 法 已 有 成 功 的 工 程 應(yīng) 用 ， 但 是 高 壓 脈 沖 乃 處 于 試 驗(yàn) 階 段
水處理高級氧化技術(shù)
